電電公社(現NTT)の研究所では，101形磁気ディスクパック装置の実用化の経緯から，線記録密度1,000bit/mm（当時の実用記録密度の6倍）の実現を目標に，薄膜を含む磁気ディスクと磁気ヘッドの電磁変換，記録再生回路，ヘッド浮上機構，ポジショナ機構，実装などの研究を1974年から本格化した．
磁気ディスク装置の大容量化への要求は極めて急で，1976年に大容量磁気ディスク装置の本格的検討に着手し，1978年には記憶容量800MB/スピンドルの801形（JS4370）磁気ディスク装置を実用化した．本装置は以下の特長を持つ．
- 1) 薄層の塗布形磁気ディスクと小型・高感度のモノリシック形磁気ヘッドの開発により，線記録密度340bit/mm，トラック密度26tr/mm，面記録密度9kbit/m2（従来の4倍）を達成．
- 2) 長さ 4.6mmの小型浮動ヘッドスライダーにより浮上すきま0.36μmを実現．
- 3) 可動部質量650gのポジショナを開発し，位置決め制御±1.5μmの高精度を実現．
- 4) 高速のポジショナシークにより，平均シーク時間 20ミリ秒を実現．
- 5) 余弦等化を用いた再生回路の開発により，データ転送速度1.344MB/秒，信号検出マージン40％以上を実現．
